발명 특허: 제품, 방법 또는 개선을 위한 새로운 기술 방안을 말합니다.

실용 신안 특허: 제품의 모양, 구조 또는 조합에 대한 실용에 적합한 새로운 기술 방안을 말한다.

외관 디자인 특허: 제품의 모양, 패턴 또는 조합, 색상, 모양, 패턴의 조합을 기반으로 한 미감과 산업 응용에 적합한 새로운 디자인입니다.

특허 라이센스 시간:

발명 특허 수여는 보통 3 년 정도 걸린다.

실용 신안 특허를 수여하는 데는 보통 1 년 정도가 걸린다.

외관 디자인 특허 수여는 보통 8 개월 정도 걸립니다.

특허권 보호 기간:

발명 특허의 보호 기간은 20 년이다.

실용 신안 특허의 보호 기간은 10 년이다.

외관 디자인 특허 보호 기간은 10 년입니다.

특허 출원에 필요한 정보:

1. 발명창조명: 이름은 발명창조의 주제와 유형을 간단명료하게 반영해야 한다.

2. 배경기술이 본 발명과 가장 가까운 기존 기술의 경우.

3. 발명에 의해 생성 된 기술 프로그램:

제품 범주의 발명: 모든 부품의 이름, 첨부된 도면과의 연결 및 작업 과정을 명확하고 완전하게 나타냅니다. 제공되는 방안은 이 분야의 일반 기술자의 실현을 기준으로 한다.

전자 발명: 다이어그램의 각 전자 장치 또는 모듈로 원리를 설명하는 회로 다이어그램이나 상자 다이어그램을 제공합니다.

방법의 발명 창조: 가공 기술, 화학제품, 의약품, 식품 등을 포함한다. , 프로세스 단계 및 프로세스 조건의 제한 사항을 자세히 설명하고 필요한 경우 해당 프로세스 순서도를 제공해야 합니다. 컴퓨터, 통신 등의 분야와 관련된 방법 발명 창작의 경우 방법의 처리 과정을 제공하고 필요에 따라 순서도를 제공해야 합니다.

4. 발명창조의 유익한 효과와 장점: 발명창조가 기존 기술에 비해 긍정적인 효과와 장점을 기술하는데, 이 장점과 효과는 발명이 창조한 기술 방안을 사용하여 직접 얻은 것이다.

5. 도면 설명: 시트가 있는 경우 기계 제도 표준에 따라 그려야 합니다.

6. 예:

제품 및 전자 제품의 발명: 한 가지 구현 사례는 발명을 실현하는 하나 이상의 구체적인 설계 방안입니다. 첨부된 그림이 있는 경우 해당 섹션을 그림과 함께 설명하고 해당 섹션 뒤에 첨부된 참조 번호를 표시해야 하며 필요에 따라 기능, 동적 구조, 작동 방식 및 사용법에 대해 설명할 수 있습니다.

방법의 발명: 프로세스 프로세스, 작업 단계 및 특정 프로세스 매개변수를 상세히 설명해야 하며, 일반적으로 여러 프로세스 매개변수 조합에 대한 구현 시나리오여야 합니다. 컴퓨터, 통신 등의 분야와 관련된 방법 발명 창조의 경우 순서도를 결합하여 방법에 대한 상세한 구체적인 구현 방안을 제공하고 다양한 방안을 제공할 수 있어야 합니다.