이중 응력 라이닝 (DSL) 기술

2004 년 말, AMD 와 IBM 은 트랜지스터 기술 분야에서 돌파구를 공동 발표했습니다. 이 두 회사의 엔지니어는 반도체 트랜지스터의 응답 속도를 24% 높일 수 있는 Dual Stress Liner 라는 기술을 개발했습니다.

사실 이 기술의 배후에 있는 원리는 상당히 간단하다. 실제로 DSL 은 90nm 생산 공정에서 인텔이 내놓은 변형 실리콘 기술과 매우 유사합니다. 트랜지스터가 세밀할수록 작동 속도는 높아지지만 누설 전류가 증가하고 스위치 효율이 낮아져 전력 소비량과 발열량이 증가하는 것으로 알려져 있습니다. 이중 응력 라이닝은 트랜지스터의 실리콘 층에 응력을 가하여 속도를 높이고 전력 소비량을 줄입니다.

즉, DSL 은 실리콘 사이의 원자 격자를 변경하여 트랜지스터가 더 빠른 응답 시간과 더 낮은 열을 얻을 수 있도록 합니다. 한 가지 경우 실리콘 원자는 "당겨지고", 다른 경우에는 "함께 압착" 됩니다. 이는 원자 격자가 늘어나거나 압축된 질화물 밀폐층으로 이동하여 수행됩니다. 인텔이 사용하는 변형 실리콘과 달리 AMD 와 IBM 의 DSL 은 얻기 어려운 실리콘 게르마늄 층을 사용하지 않고 NMOS 와 PMOS 두 가지 트랜지스터 유형 (N 과 P 채널 포함) 에 사용할 수 있어 비용이 증가하고 칩 수율에 영향을 줄 수 있습니다.

DSL 의 이중성은 인텔의 변형 실리콘보다 더 효과적입니다. DSL 은 트랜지스터의 응답 속도를 24% 높이고 변형 실리콘은 15-20% 의 최대 개선을 제공합니다. 더 중요한 것은 AMD 와 IBM 의 이 신기술은 생산량과 생산 비용에 부정적인 영향을 미치지 않는다는 것이다. 생산에 새로운 생산 방식을 사용할 필요가 없기 때문에 표준 생산 설비와 재료를 사용하면 신속하게 대량 생산을 할 수 있다. 또한 실리콘 절연 막 구조 (SOI) 및 변형 실리콘을 사용하여 더 높은 성능과 저전력 트랜지스터를 생산할 수 있습니다.

새로운 Venice 프로세서의 핵심은 AMD 최초의 듀얼 스트레스 라이닝 기술이 적용된 데스크탑 프로세서입니다. 이 신기술은 현재의 SOI 기술과 함께 Venice 기반 프로세서를 더 높은 코어 클럭 주파수로 만들 수 있습니다. AMD 엔지니어는 이중 응력 라이닝과 SOI 의 결합으로 Athlon 64 프로세서의 주파수 잠재력이 약 65,438+06% 증가할 것으로 예상하고 있습니다. 즉, 베니스 기반 CPU 는 2.8GHz 공칭 주파수를 가져야 합니다.