특허를 개발하는 데는 많은 법칙이 있는데, 이 법칙을 익히고 특허를 개발하는 것은 비교적 쉽다. 기업에 강의할 때 필자는' 특허 개발 공식' 을 전문적으로 설명하고 특허 개발 기교를 설명했다. 이 공식이 전개되면 특허 개발을 지도할 수 있는 간단한 특허 지도를 얻을 수 있다. 전반적인 원칙은 다음과 같습니다.
우선 기업의 생산 프로세스를 가로축으로 하여 생산 프로세스를 무한히 정련한다. 각 프로세스는 점입니다. 각 지점마다 기업에 해당 담당자가 있어 해당 인원이 해당 지점의 특허 개발을 담당하고 있다. 이 사람들은 일년 내내 이 점에 종사하며, 이 점에 대해 매우 잘 알고 있기 때문에 개발 업무는 많이 익숙해질 것이다. 그런 다음 각 점에서 세로 축을 그립니다. 세로 축에는 기존 특허와 발전 가능성이 있는 특허의 분포가 있습니다. 이를 통해 2D 평면도를 그려 업계의 특허 분포를 명확하게 표시하여 경쟁사 특허 광산의 분포를 알 수 있으며, 제품 및 기술의 발전 방향을 안내하여 특허 지도의 기본 역할을 할 수 있습니다.
원리는 간단합니다. 그런 다음 각 프로세스를 미세 조정하는 방법은 생각만큼 간단하지 않습니다. 가장 중요한 것은 수직축에서 특허 분포를 찾는 것이다. 이는 일반 검색에서 알 수 없는 것이다. 기술 및 제품 개발 방향을 찾으려면 전문적인 분석이 필요합니다. 특허 지도를 많이 단순화했지만, 이러한 특허 지도를 그리려면 전문가가 종합적인 계획을 세워야 하며 다양한 인재가 참여해야 합니다. 또 다른 문제는 수평축의 각 프로세스 포인트가 모든 사람이 특허를 개발할 수 있는 것은 아니며 개발을 위해 특허 개발 팀을 구성해야 한다는 것입니다. 팀 구성원은 기술자뿐만 아니라 마케팅, 재무, 법률 등 방면의 사람도 있다.
특허 지도를 그리는 것은 체계적이고 방대한 프로젝트이지, 일반 기관이 감당할 수 있는 것이 아니다. 만약 한 기업이 일정한 규모나 결심이 없다면 쉽게 전개할 필요가 없다.