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중화인민공화국 특허법:

제 33 조 신청자는 특허 출원 서류를 수정할 수 있지만, 발명 및 실용 신안 특허 출원 서류의 수정은 원본 설명서와 권리 요구서에 기재된 범위를 초과해서는 안 되며, 외관 설계 특허 출원 서류의 수정은 원본 사진이나 사진에 표시된 범위를 초과해서는 안 된다.

중화인민공화국 특허법 시행 세칙

제 51 조 발명 특허 출원인은 국무원 특허 행정부로부터 발명 특허 출원이 실질심사 단계에 진입했다는 통지를 받은 날로부터 3 개월 이내에 발명 특허 출원에 대한 수정 의견을 자발적으로 제출할 수 있다.

실용 신안 또는 외관 디자인 특허 신청자는 신청일로부터 2 개월 이내에 실용 신안 또는 외관 디자인 특허 출원에 대한 수정 의견을 제출할 수 있습니다.

신청인이 국무원 특허 행정부로부터 심사 의견 통지서를 받은 후 특허 출원 서류를 수정하는 것은 통지서의 요구에 따라 수정해야 한다.

국무원 특허 행정부는 특허 출원 서류에서 뚜렷한 글과 기호 오류를 스스로 정정할 수 있다. 국무원 특허 행정부가 스스로 수정한 것은 신청인에게 통지해야 한다.

제 52 조. 발명 또는 실용 신안 특허 출원의 설명서 또는 권리 요구서의 수정 부분은 개별 문자 수정 또는 추가 삭제를 제외하고 규정된 형식에 따라 교체 페이지를 제출해야 합니다. 외관 디자인 특허 출원 사진이나 사진이 수정된 경우 규정에 따라 교체 페이지를 제출해야 합니다.

제 53 조 특허법 제 38 조의 규정에 따라 발명 특허 출원이 실질심사를 거쳐 기각되어야 하는 경우는 다음과 같다.

(1) 신청은이 규칙 제 2 조 제 1 항의 규정을 준수하지 않는다.

(2) 출원은 특허법 제 5 조, 제 25 조의 규정에 속하거나 특허법 제 22 조, 이 규칙 제 13 조 제 1 항, 제 20 조 제 1 항, 제 21 조 제 2 항의 규정에 부합하지 않거나 특허법 제 9 조의 규정에 따라 특허권을 획득할 수 없다.

(3) 신청은 특허법 제 26 조 제 3 항, 제 4 항 또는 제 31 조 제 1 항의 규정을 준수하지 않는다.

(4) 신청의 개정은 특허법 제 33 조의 규정에 부합하지 않거나, 분안 신청은 본 세칙 제 43 조 제 1 항의 규정에 부합되지 않는다.

제 62 조 특허 재심위원회가 재심을 실시한 후 재심 요청이 특허법과 본 규칙의 관련 규정에 부합되지 않는다고 판단한 경우, 요청자에게 지정된 기한 내에 의견을 진술하도록 통지해야 한다. 만기에 대답하지 않은 경우, 검토 요청은 철회로 간주됩니다. 특허 재심위원회는 의견을 진술하거나 수정한 후에도 여전히 특허법과 본 규칙의 관련 규정에 부합하지 않는다고 판단한 경우 재심 결정을 내리고 원래 기각 결정을 유지해야 한다.

특허 재심위원회는 재심을 거쳐 원래 기각 결정이 특허법과 본 세칙의 관련 규정에 부합하지 않거나, 개정된 특허 출원 서류가 원래 기각 결정으로 지적된 결함을 제거했다고 판단했다. 원래 기각 결정을 철회하고, 원래 심사부에서 심사 절차를 계속해야 한다.

제 68 조 무효 선언 요청 심사 과정에서 특허를 발명하거나 실용 신안 특허를 발명한 특허권자는 권리 요구서를 수정할 수 있지만, 원특허의 보호 범위를 확대해서는 안 된다.

발명 또는 실용 신안 특허 특허권자는 특허 설명서와 도면을 수정할 수 없으며, 외관 설계 특허 특허권자는 사진, 사진 및 간단한 설명을 수정할 수 없습니다.