기술은 특허 레이아웃에서 고려할 수 있는 확장성, 관련성 및 적용성의 특징을 가지고 있습니다.
우선, 기술의 지속과 심층 발전을 중심으로 수직 배치 구조를 형성해야 한다. 기술의 발전은 항상 극한의 성능으로 발전하는데, 이는 비용의 부단한 감소, 새로운 에너지 사용의 부단한 개선, 기능의 부단한 개선, 환경보호 안전의 부단한 향상, 신뢰성의 부단한 향상보다 못하다. 장기적으로 특허 배치는 이 기술의 개선과 변화에 초점을 맞추고 깊이 방향으로 배치해야 한다.
둘째, 특허 배치는 서로 다른 기술 간의 지지 관계를 중심으로 수평 배치 구조를 형성해야 합니다. 어떤 기술도 고립적으로 발전한 것이 아니라 관련 기술 집단에서 발전한 것으로, 기술과 기술 사이에는 광범위한 관계가 있다. 기술의 실현과 발전에는 해당 기술, 제조 기술 및 재료 기술의 지원이 필요하며, 기술의 발전은 선도적인 기술의 발전을 촉진할 것이다. 특허 레이아웃은 기술 기관의 기술 지원 및 관련 관계의 수평 배치 메커니즘을 반영하기 위해 수평 지원 및 관련 기술의 적용 범위를 고려해야 합니다.
마지막으로 특허 레이아웃은 다양한 기술 적용 시나리오를 중심으로 분기 레이아웃 구조를 형성해야 합니다. 어떤 기술이든 항상 알려진 분야에서 미지의 영역으로 침투하여 기술의 새로운 용도를 끊임없이 개발하는데, 마치 큰 나무 한 그루가 끊임없이 새로운 가지를 자라게 하는 것과 같다. (윌리엄 셰익스피어, 햄릿, 과학명언)
둘째, 제품 구조
제품은 기술의 최종 응용 형태이며 기술의 적용 가능성과 연관성을 직접 반영합니다. 제품의 교체와 기술의 심도 있는 발전은 상호 촉진, 상호 인과의 관계이다. 따라서 특허 배치는 특정 기술 수준과 기술 기관을 고려하면서 제품 차원을 둘러싼 레이아웃 구조를 고려해야 합니다.
제품 레이아웃을 중심으로 전체 제품의 시스템 구성에서 계층 구조를 형성해야 합니다. 제품 설계, 제조, 조립, 판매, 사용 및 부가 가치 서비스의 전체 체인을 보면 관련 기술 내용은 다음 그림과 같이 매커니즘 설계, 공정 제조, 조립품 테스트 및 설치로 나눌 수 있습니다.
제품을 중심으로 특허를 낼 때는 주요 부품, 주요 기능, 주요 구조, 핵심 기술 등의 핵심 콘텐츠를 강조해야 한다. 높은 혁신 수준, 성능 향상, 차별화된 특징이 돋보이는 부품, 기능 및 구조에 초점을 맞추고 제품에 높은 부가가치를 제공하는 기술적 포인트에 초점을 맞추고 있습니다.
셋째, 가치 구조
특허 레이아웃의 목표 중 하나는 높은 가치의 특허 자산을 얻는 것이다. 특허 가치의 높낮이는 특허 소송, 허가, 매각 과정에서 뚜렷한 수익을 통해 드러날 수 있으며, 경쟁자 및 모방자에 대한 시장 접근 제한의 규모, 지역 폭 및 시간을 통해 드러날 수 있습니다.
넷째, 지역 구조
특허 제도의 지역적 특징에 근거하여, 어떤 특허가 발휘할 수 있는 역할은 모두 특정 지리적 범위로 제한된다. 사용자 습관, 풍습, 생활환경, 상업규칙 등 지역적 차이에 따라 많은 제품의 성공도 지역적 특색과 결합되어 있다.
동사 (verb 의 약어) 시간 구조
특허 출원과 보호는 시간제한이 있고, 기술산업의 발전은 시간진화의 특징을 가지고 있다. 따라서 시간 구조는 특허 배치의 중요한 고려 사항이다.
특정 특허의 설계 시간 구조. 특허와 관련된 시점은 우선 순위일, 신청일, 국제신청일, 공개일, 국제발표일, 국가단계 입국일, 허가공고일, 분안신청일 등 많다.
특정 특허의 경우 기업은 기술 R&D 진행 상황, 경쟁사의 연구 동향, 시장 수요의 동적 변화, 산업 성숙의 과정, 이러한 시간 체계를 유연하게 활용하고 특허 레이아웃의 내용을 풍부하게하며 제품 차별화의 경쟁 우위를 축적할 수 있습니다. 가장 유리한 시기를 선택하고 경쟁사의 R&D 투입을 소비하며 모방자가 일정 범위 내에서 후속 조치를 취하도록 유도할 수 있습니다.
산업 프로세스에 따라 타이밍 구조를 설계하다. 기술 제안부터 산업 실현, 산업 성숙에 이르기까지 기술의 구체적인 실현 방식, 적용 시나리오, 지원 재료, 관련 기술에 큰 변화가 있을 수 있습니다. 따라서 특허 배치 과정에서 많은 수의 주변 특허를 초기에 배치할 수 있으며, 산업 실현과 경쟁 업체의 후속 진행에 따라 주변 특허를 점진적으로 배치하여 핵심 기술의 보호 기간을 연장할 수 있습니다.