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Euv 특허 취소
최근 몇 년 동안, 중국의 칩 업계의 짧은 판이 점점 더 걱정스러워지고 있다. 국산 칩 커브길에서 추월하는 것은 이미 많은 국민의 소원이 되었다.

국무원의 계획에 따르면 2025 년까지 국산 칩 자급률은 70% 에 이를 것이다. 20 19 년, 이 수치는 약 30% 입니다.

현재 중국의 칩 산업은 두 가지 주요 문제에 직면 해 있습니다. 이 두 가지 어려움을 극복할 수 있다면 자급률 70% 의 목표는 문제가 되지 않는다.

선계유 앞문자산투자연구이사는 증권일보와의 인터뷰에서 제조공예, 광각기, 공업소프트웨어가 우리나라 반도체 칩의 발전을 제한하는 두 가지 요인이라고 밝혔다.

리소그래피 기계는 반도체 제조의 정확도와 직결되어 칩의 가장 선진적인 공정을 결정한다.

10nm 칩 프로세스 노드를 돌파하기 위해서는 광원 파장이 13.5nm 인 EUV 리소그래피기가 필수적입니다. 이것이 삼성과 타이완 반도체 매뉴팩처링 들이 매년 아스메르 EUV 리소그래피 기계의 생산능력을 쟁탈하는 이유이다.

현재 아스맥은 세계에서 유일하게 EUV 리소그래피 기계를 생산할 수 있는 회사이다.

그러나 중국이 리소그래피 기계 문제를 돌파하는 것은 매우 어렵다. 리소그래피 기계는' 현대 반도체 업계 왕관의 명주' 로 알려져 있으며, 기술 함량이 높아 현대 최고의 기술의 결정체라고 할 수 있다.

아스마이 뒤에는 5,000 개 공급업체의 지원을 통해서만 EUV 리소그래피 기계를 생산할 수 있다. 그래서 중국과 리소그래피 기계는 돌파하기 어렵다.

공업 소프트웨어는 공업이 명맥을 만드는 것이다. 이 가운데 EDA 는' 칩의 어머니' 로 전체 칩 산업의 최상위에 위치하여 글로벌 칩 산업의 목에 쉽게 끼워져 있다.

유감스럽게도, 중국의 EDA 산업은 해외에 독점되고 있다. 미국의 Candence, Synopsys, Mentor Graphics 가 중국 시장의 95% 를 차지하고 있다.

화웨이, 중흥, 연상 등. 모두 위 기업의 EDA 제품을 채택하고 있습니다.

이것은 반드시 경각심을 불러일으켜야 한다. 다행히 중국은 EDA 분야에서 작은 돌파구를 세웠는데, 그중 화대 9 일은 국내 EDA 의 선두 주자이다.

현재 화대는 9 일 동안 웨이퍼 제조에 사용되는 EDA 도구 등을 상용화하여 자광 전시, 화웨이 등 400 여 곳의 고객을 확보했다.

위에서 볼 수 있듯이 국산 칩이 커브길을 따라 추월하는 것은 쉬운 일이 아니며 많은 어려움을 극복해야 한다.

선계유는 이 두 가지 문제를 근본적으로 해결할 가능성은 낮으며 "특허기간이 지난 일반 제품이 복제될 수 있는지, 칩의 자급률을 높일 수 있는지에 초점을 맞춰야 한다" 고 덧붙였다.

최근 몇 년 동안 중국은 반도체 산업의 발전을 가속화하는 정책을 점점 더 많이 내놓았다.

동시에 중국은 세계 최대 반도체 시장이며, 엄청난 수요가 중국 관련 기업의 발전을 자극할 것이다. 점점 더 많은 자본이 중국의 반도체 산업으로 유입되고 있다.

이에 따라 중국이 칩 자급의 70% 를 달성하는 목표는 여전히 큰 희망이 있다.