일반적으로 특허 출원이 제기된 지 1 년 이내에 공개되면 비허가 공개로 간주되어 후속 특허 신청에 영향을 미칠 수 있습니다. 중국을 포함한 대부분의 국가에서 특허법은 발표 전에 특허 신청을 요구한다.

하이테크 기업의 기준을 인정하는 것은 각국과 지역마다 다르다. 다음은 일반적으로 인정 된 하이테크 기업의 공통 요구 사항 중 일부입니다.

1, 기술 혁신 역량, 기업은 자체 R&D 능력과 관련 분야의 기술 혁신을 필요로 합니다. 여기에는 독립적인 지적 재산권, 특허 및 기술 성과가 포함됩니다.

2, 기술자 비율, 기업은 엔지니어링 기술자, R&D 인력 등 일정 비율의 기술자가 필요합니다. 구체적인 비율 요구 사항은 국가 또는 지역 정책에 따라 다를 수 있습니다.

3. 연구 개발 투자 회사. 기업은 R&D 에 지속적으로 투자해야 하며, 일정한 R&D 실력을 갖추어야 한다. 기업들은 보통 일정 기간 동안 R&D 에 일정 비율의 투자를 요구받는다.

4, 기술 성과의 응용, 기업은 기술 성과를 실제 생산 경영 활동에 적용하고, 일정한 성과와 이익을 얻을 필요가 있다.

5. 업계의 영향력. 기업은 관련 분야에서 일정한 업계 영향력과 시장 지위를 가지고 있어 업계의 발전에 긍정적인 역할을 할 수 있다.

요약하면, 발명 특허 출원이 1 년도 안 되는 기간 내에 공개되면, 다른 사람들은 같은 기술 방안에 근거하여 고액 신청을 할 수 있다.

법적 근거:

중화인민공화국 특허법 제 23 조

(1) 특허권을 부여받은 외관 디자인은 기존 외관 디자인에 속하지 않는다. 신청일 이전에는 어떤 기관이나 개인도 같은 외관 디자인에 대해 국무원 특허 행정부에 신청한 적이 없으며 신청일 이후 발표된 특허 서류에 기재되어 있다.

(2) 특허권을 부여받은 외관 디자인은 기존 디자인이나 기존 디자인 특징의 조합에 비해 뚜렷한 차이가 있어야 한다.

(3) 특허권을 부여받은 외관 디자인은 신청일 이전에 이미 취득한 합법적인 권리와 상충해서는 안 된다.

(4) 본법에서 말하는 기존 디자인은 신청일 이전에 국내외 대중이 알고 있는 디자인을 가리킨다.