첫째, 특허 출원은 우선 등록해야 한다.
특허 출원은 특허권을 획득하는 데 필요한 절차이다. 신청인이 특허권을 획득하면 마땅히 국가특허청에 신청해야 하며, 국가특허국의 승인과 증서를 발급해야 한다. 국가 특허청에 특허 신청을 할 때 신청인은 요청서, 설명서, 요약, 권리요구서 등 일련의 신청서류도 제출해야 한다. 특허 출원 방면에서 세계 각국의 특허법 규정은 기본적으로 일치한다. 스스로 신청할 수도 있고 중개기관을 찾아 신청할 수도 있다. 침해 방지를 위한 특허 출원 조치와 저작권 등록은 모두 자발적이며, 어떤 등록행위도 권리를 증명하는 예비 증거이다. 공식 지정 등록 기록 기관을 선택하고, 산업협회와 같은 제 3 자 플랫폼을 선택하여 빠른 전자 데이터 등록 기록을 하고, 기술적 배경과 공신력이 강한 제 3 자 지원 플랫폼을 선택하여 증빙해야 한다. 대중저작권 보호 플랫폼, 디지털 작품의 시간 인증 및 다위도 스마트 인증을 실시한다.
둘째, 특허 출원 절차는 다음과 같습니다
1, 발명 특허 출원
(1) 특허 출원 승인 프로세스 개발
특허 출원-수락-예비 심사-발표-실질심사 요청-실질심사-승인
(2) 발명 특허를 신청할 때 제출해야 할 서류: 요청서: 발명 특허의 이름, 발명가 또는 디자이너의 이름, 신청인의 이름, 주소 등이 포함됩니다. 을 눌러 섹션을 인쇄할 수도 있습니다 설명: 발명 특허의 이름, 기술 분야, 배경 기술, 발명 내용, 그림 및 구체적인 구현 방법을 포함합니다. 권리 요구 사항: 발명의 기술적 특징을 설명하고 보호를 요청하는 내용을 명확하고 간결하게 진술합니다. 삽화: 발명 특허에는 종종 그림이 있다. 텍스트만으로 기술 방안을 명확하고 완벽하게 묘사할 수 있다면 도면이 필요하지 않다. 요약: 발명이 해결해야 할 기술적 문제, 이 문제를 해결하는 기술 방안의 요점 및 주요 용도를 명확하게 반영합니다.
2, 실용 신안 특허 출원
(1) 실용 신안 특허 출원 승인 프로세스 0
특허 출원-수락-예비 심사-공고-승인
(b) 실용 신안 특허 출원시 제출해야하는 서류
요청: 실용 신안 특허의 이름, 발명가 또는 디자이너의 이름, 신청자의 이름 및 주소 등이 포함됩니다. 설명: 실용 신안 특허의 이름, 기술 분야, 배경 기술, 발명 내용, 그림 및 구체적인 구현 방법을 포함합니다. 권리 요구 사항: 실용 신안의 기술적 특징을 설명하고 보호를 요청하는 내용을 명확하고 간결하게 진술합니다. 삽화: 실용 신안 특허에는 반드시 그림이 있어야 한다. 요약: 발명이 해결해야 할 기술적 문제, 이 문제를 해결하는 기술 방안의 요점 및 주요 용도를 명확하게 반영합니다.
3, 외관 특허 출원
(1) 외관 설계 특허 출원 절차
특허 출원-수락-예비 심사-공고-승인
(b) 디자인 특허가 제출되어야 할 서류
요청: 디자인 특허의 이름, 디자이너 이름, 신청자 이름, 주소 등이 포함됩니다.
디자인 사진 또는 사진: 최소 2 세트의 사진 또는 사진 (전면, 후면, 맨 위, 맨 아래, 왼쪽, 오른쪽, 필요한 경우 스테레오 포함) 디자인 개요: 필요한 경우 디자인 개요를 제출해야 합니다.
특허 보호는 중국에서 아직 발전 단계에 있으며, 중국의 특허 연구는 시작이 늦어서 특허 보호 방면에 다소 약해 보인다. 따라서 국민 의식을 높여야 한다. 모든 시민은 지적재산권을 보호하는 의식을 가지고 있다. 그래야 법이 순조롭게 시행될 수 있다. 특허 지식에 관한 다른 질문이 있으시면 8 계 지적재산권 상표양도망을 방문하여 알아보시기 바랍니다.