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특허, 특허 기술 및 독점 기술
특허와 독점 기술의 주요 차이점

(1) 다른 기밀성: 각국 특허법 규정에 따라 특허권을 신청할 때 발명가는 특허 출원에서 발명한 내용을 공개해야 하며, 이 내용은 특허 주관부에서 공식 특허 공고에 공개하고 공개해야 한다. 독점 기술은 가능한 한 기밀로 유지되며, 일단 기밀을 잃으면 법률의 보호를 받을 수 없다.

(2) 시효성이 다르다: 특허 기술에는 법정 기한이 있는데, 그 중 발명 특허권의 보호 기간은 20 년, 실용 신안 특허권과 외관 디자인 특허권의 보호 기간은 10 년이다. 독점 기술은 그렇지 않습니다. 독점 기술에는 시간 제한이 없습니다. 독점 기술은 비밀이다. 기술이 공개되지 않는 한, 독점 기술 소유자는 항상 혼자서 기술을 즐길 수 있다.

(3) 지역적 차이: 특허 기술은 허가 지역 내에서 보호되며 지역적 특징을 가지고 있다. 한 국가가 자국 특허법에 따라 부여한 특허권은 그 법률 관할 범위 내에서만 유효하며 다른 나라에는 구속력이 없다. 독점 기술은 지역성이 아니다. 기술이 공개되지 않는 한, 독점 기술 소유자는 전 세계 모든 국가에서 해당 기술을 독점적으로 사용할 수 있습니다.

(4) 다른 법적 보호: 특허 기술의 보호는 전문적인 법적 보호와 특허법의 보호를 받는다. 일단 한 사람이 어떤 독점 기술의 특허권을 취득하면, 이 독점 기술은 우리나라 특허법의 보호를 받을 것이다. 독점 기술은 보이지 않는 지적 재산권으로 주로 비밀 수단을 통해 보호된다. 독점 기술은 법률의 보호를 받는 정도가 특허 기술보다 훨씬 못하다.

법적 근거

중화 인민 공화국 불공정 경쟁법

제 42 조 신청일로부터 발명 특허권의 기한은 20 년, 실용 신안 특허권의 기한은 10 년, 외관 설계 특허권의 기한은 15 년이다.

발명 특허는 발명 특허 출원일로부터 만 4 년, 실질심사 요청일로부터 3 년 만에 특허권을 수여받은 경우 국무원 특허 행정부는 특허권자의 요청에 따라 발명 특허에 대한 허가 과정의 불합리한 지연에 대해 보상을 해야 한다. 그러나 신청인의 원인으로 인한 불합리한 지연은 제외된다.

신약 상장 심사 심사 심사 심사 심사 심사 심사 승인 시간을 보상하기 위해 국무원 특허 행정부는 특허권자가 중국에서 상장허가를 받은 신약 관련 발명 특허의 특허 기한을 보상해야 한다. 보상 기간은 5 년을 초과하지 않으며 신약 비준 후 총 유효 특허권 기간은 14 년을 초과하지 않습니다.

제 11 조 발명 및 실용 신안 특허권이 수여된 후, 본 법에 달리 규정되어 있지 않는 한, 어떤 기관이나 개인도 특허권자의 허가 없이 특허를 실시할 수 없습니다. 즉, 생산 경영 목적을 위해 이 특허 제품을 제조, 사용, 판매, 판매 또는 수입할 수 없으며, 특허 방법과 사용, 판매 약속, 판매 또는 수입할 수 없습니다.

외관 디자인 특허가 부여되면 어떤 기관이나 개인도 특허권자의 허가 없이 특허를 실시할 수 없습니다. 즉, 생산 경영 목적을 위해 특허 제품을 제조, 판매 약속, 판매 또는 수입할 수 없습니다.