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특허 유출을 쓰다
이와 함께 중국도 특허 출원 조건을 잃었다. 이 기술의 비밀과 누출의 원인은 비밀 유지 조치나 비밀 유지 조치가 부족하거나, 기술자가 비밀을 누설하거나, 외국 회사에 기술을 양도하면 그 기술이 비밀과 누설을 초래할 수 있기 때문이다. (윌리엄 셰익스피어, Northern Exposure (미국 TV 드라마), 기술명언)

특허 출원 조건:

1. 발명과 실용 신안 특허 출원인은 참신함, 창의력, 실용성을 갖추어야 한다.

2. 특허 출원 외관 디자인은 참신해야 하며 기존 디자인에 속하지 않습니다.

3. 타인의 이전 특허권과 충돌해서는 안 되며, 법률, 사회공덕 또는 공익을 위반해서는 안 된다.

4. 참신함은 발명이나 실용신형이 기존 기술에 속하지 않고 신청일 이전에 같은 발명이나 실용신형을 국무원 특허 행정부에 신청한 적이 없다는 뜻이다.

5. 창조성이란 신청일 이전의 기존 기술에 비해 눈에 띄는 실질적 특징과 뚜렷한 진보가 있는 실용 신안에는 실질적 특징과 진보가 있다는 것을 말한다.

6. 실용성이란 이 발명이나 실용신형을 제조하거나 사용할 수 있고 긍정적인 효과를 낼 수 있다는 것을 말한다.

특허 출원 프로세스는 다음과 같습니다.

1. 시민들이 발명이나 실용 신안 특허를 신청할 때 설계 설명서, 특허 출원, 요약, 권리 요구서 등의 신청서를 제출해야 한다.

2. 시민들이 외관 디자인 특허를 신청할 때 외관 디자인 사진, 특허 신청서, 외관 디자인 문서를 제출해야 합니다. 나는 특허청에 직접 신청서를 제출할 수도 있고, 지적재산권 기관에 특허 신청을 의뢰할 수도 있다.

3. 특허국은 일정 기간 내에 신청서를 접수하고 심사하며, 관련 직원은 실질심사가 필요한 발명 특허를 심사한다.

4. 비준이 통과된 후 특허국은 허가통지서를 발급하고 신청인은 2 개월 이내에 등록 수속을 밟는다. 관련 수속을 마치면 특허국은 특허증을 발급할 것이다.