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미국 사진 저작권 조회 네트워크-미국 특허를 쿼리하는 방법
만능 위챗 모멘트, 어떻게 미투침해를 조사할 것인가 ~ 질문에 대답하는 사람은 무대 뒤에서 침해를 조사하는 방법을 도울 수 있다.

1. 우리 미국 저작권국 홈페이지를 복사해서 브라우저에 붙이자.

2. 공식 홈페이지에서 미국 저작권국의 홈페이지에 접속한 뒤 SearchCopyrightRecords 로 내려 LearnMore 를 클릭합니다.

3. LearnMore 를 클릭하면 페이지에서 OnlineRecordsCollections 섹션을 찾아 officialpubliccatalog (1978-present) 를 클릭합니다.

4. 이후 제목, 보유자, 키워드, 등록 번호, 문서 번호 등과 같은 저작권 정보를 입력해야 하는 다음 페이지로 넘어갑니다.

어떻게 미국 특허를 조회해 미국 특허국 홈페이지에 접속한 후 왼쪽 칼럼 특허 아래 검색을 클릭하세요. 다음으로 사용자는 특허 전문과 전체 페이지 데이터베이스의 화면으로 이동합니다. 여기서 녹색 영역은 승인된 특허에 속하고 노란색 영역은 신청의 초기 공개 정보에 속하며 각 영역에는 빠른 검색, 고급 검색 및 특허 번호 검색의 세 가지 검색 방법이 있습니다.

확장 데이터:

하나 또는 세 가지 세부 방법:

1. 빠른 검색: 사용자는 두 키워드의 단일 조합 (예: AND, OR, ANDNOT) 을 입력하여 검색할 수 있으며 키워드가 나타나는 필드 (예: 제목, 발명 요약, 발명가명 등) 를 지정할 수 있습니다. ) 및 특허 발표 연도. 예를 들어, MicrosoftCorporation (

마이크로소프트

소프트웨어 회사), "발명 이름" 은

검색 엔진

(검색 엔진), 1976 부터 현재까지의 특허 검색 기준은 다음과 같이 설정됩니다. 검색 결과는 다음과 같습니다. 읽을 특허 (예: 미국 특허 번호 6,523,021) 를 클릭하면 해당 특허의 텍스트 내용이 표시됩니다.

아래 그림: 이 섹션에는 특허 문서의 텍스트 부분만 표시되며 아이콘은 포함되지 않는다는 점에 유의해야 합니다. 사용자가 아이콘에 관심이 있다면 "이미지" 를 클릭하여 다음과 같이 특허받은 TIFF 사진 파일을 볼 수 있습니다. 특허의 다음 페이지를 읽으려면 특허의 왼쪽 위 모서리에 있는 "GotoPage" 아래의 화살표를 눌러 다음 페이지로 이동할 수 있습니다.

2. 고급 검색: 사용자는 여러 키워드를 입력하고 코드 지정 키워드가 나타나는 필드를 통해 검색할 수 있습니다. 예를 들어, "특허 이름" 은 카메라이고, "특허권자" 는 소니입니다 (

신력

), "특허권자가 있는 도시" 는 도쿄 (도쿄) 입니다. 1976 부터 현재까지 특허까지 검색 기준' TTL/camera andan/sonyandac/Tokyo' 를 입력하고 연도'1976 top pro' 를 선택해야 한다

예를 들어, 검색 특허 이름은 카멜라, 특허권자는 소니, 특허권자가 있는 도시는 도쿄의 특허, 1976 부터 현재까지 검색 기준' TTL/Cameraandan/Sonyandac/Sony' 를 입력해야 한다.

특허 출원

공중 번호 검색 사례. 키워드 검색은 일반 사용자가 가장 많이 사용하는 검색 방식이라고 할 수 있지만 일부 특허를 놓치기 쉽다.

3. 미국을 이용하다

특허 분류 번호

검색을 할 수 있습니다. 미국 특허 분류 번호는 서로 다른 기술 범주에 서로 다른 분류 번호를 부여하고 기술 범주에 따라 특허를 체계적으로 분류합니다. 분류 번호를 이용하여 검색하면 더 완전한 특허 정보를 얻을 수 있다.

둘째, 미국 특허를 신청하는 다양한 방법:

1, 미국에 직접 특허 출원 (필요

중국 특허청

미리 비밀심사를 잘 하고, 비밀심사가 통과된 후 미국에서 직접 특허를 신청할 수 있다.)

2. 합격

파리 협약

미국에서 특허 신청 (우선 순위는 12 개월)

3. PCT 를 통해

특허 협력 조약

미국에서 특허 출원 (우선 순위는 30 개월까지 가능).

셋. _ 내가 이것을하지 못하게하십시오:

1, 설명서, 특허 출원 부분 및 그림

선서 진술서 및 위임장;

3. 우선 순위: 같은 발명 (또는 외관 디자인) 이 이미 다른 파리 공약 국가에서 신청한 적이 있고, 원래 신청일이 미국에서 주장된 경우, 첫 번째 외국 신청일로부터 1 년 이내에 (대만성 포함) 미국 특허청에 신청해야 한다.

4. 참신한 요구 사항 (최초 발명 원칙과 1 년 우대 원칙): 한 발명품이 미국이나 다른 나라에서 특허를 받거나 미국에서 1 년 이상 공개적으로 사용하거나 판매하면 참신함을 잃는다. 반면에, 1 년을 넘지 않는다면, 여전히 특허 출원의 참신함을 가지고 있다.

참고 자료:

특허 출원

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