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실용 신안의 요소
실제로 실용 신안 특허 침해의 구성 요소는 무엇입니까? 우리 함께 한번 봅시다! 아래 내용을 다 보면 반드시 너에게 도움이 될 것이다.

첫째, 실용 신안 특허 침해의 구성 요소

(a) 침해의 대상은 중국에서 특허권을 누리는 유효한 특허여야 한다. 첫 번째는 미국, 일본 또는 다른 국가의 특허가 아니라 중국 특허입니다. 왜냐하면 특허는 지역적이기 때문입니다. 한 국가 또는 지역의 법률에 따라 획득한 특허는 그 국가 또는 지역에서만 유효하고 보호될 수 있기 때문입니다. 둘째, 특허는 효과가 있다. 우리나라에서 발명 특허의 유효기간은 20 년이고, 실용 신안과 외관 디자인의 유효기간은 10 년이다. 보호 기간 동안에만 특허권자는 독점권을 누릴 수 있다. 유효기간이 만료되면 발명품은 * * * 분야에 진입하여 누구나 실시할 수 있으므로 특허 침해 문제는 없습니다. 또한 특허가 취소되거나 다른 이유로 무효로 선언되는 경우 해당 특허는 존재하지 않는 것으로 간주되므로 다른 사람이 실시해도 특허 침해를 구성하기에 충분하지 않습니다.

(2) 위법 행위가 있다. 즉 행위자는 특허권자의 허가 없이 영리를 목적으로 특허를 실시하는 행위가 있다. 그러나 우리나라 특허법 제 63 조는 침해로 간주되지 않는 다섯 가지 행위를 규정하고 있다는 점에 유의해야 한다.

1. 특허권자가 제조하거나 수입한 특허 제품 또는 특허 방법으로 직접 획득한 제품이 판매된 후 특허권자는 그 제품을 사용, 판매 또는 판매하겠다고 약속했다.

__2. 특허 출원 전에 이미 같은 제품을 제조하거나, 같은 방법을 사용하거나, 제조 및 사용에 필요한 준비를 하고, 기존 범위 내에서만 제조 및 사용을 계속했습니다.

3. 소속 국가가 중국과 체결한 협정이나 * * * 가 참여하는 국제조약이나 대등원칙에 따라 중국 영토, 영해, 영공의 외국운송수단을 통해 자신의 용도로 장치와 장비의 관련 특허를 임시로 사용한다.

관련 특허는 과학 연구 및 실험에 전념합니다.

5. 특허권자의 허가 없이 제조, 판매된 특허 제품 또는 생산경영을 목적으로 특허 방법에 따라 직접 획득한 제품을 사용 또는 판매하는 것은 배상 책임을 지지 않습니다. 위의 다섯 가지는 특허 침해 책임의 예외 규정이다. 행위자가 이를 항변의 근거로 삼을 수 없다면 특허 침해를 구성하고 법에 따라 책임을 져야 한다.

(3) 행위자는 주관적으로 잘못이 있다. 침해자의 주관적인 잘못은 고의와 과실을 포함한다. 고의로 행위자는 자신의 행위가 타인의 특허권을 침해하는 행위라는 것을 뻔히 알면서 이 행위를 실시하는 것을 가리킨다. 침해자는 어떤 제품이 특허 제품이라는 것을 알고 있으며, 허가 없이 생산 경영을 목적으로 그 제품을 제조하는 것을 알고 있다. 과실이란 행위자가 부주의하거나 과신하여 타인의 특허권을 침해하는 행위이다. 특허권을 부여받은 발명과 같은 것을 모르는 상태에서 발명창조를 사용하거나 양도하는 행위. (존 F. 케네디, 특허권, 특허권, 특허권, 특허권, 특허권, 특허권) 특허 침해 분쟁 처리에서 침해 책임을 지는 원칙은 행위자가 주관적으로 잘못을 저질렀는지 여부이지만 예외도 있다. 예를 들어,' 특허법' 제 63 조 제 2 항은 행위자가 주관적으로 잘못이 없어도 특허 침해를 구성하지만 배상 책임을 지지 않는다고 규정하고 있다.

(4) 일반적으로 생산 경영을 목표로 해야 한다. 우리나라' 특허법' 제 1 1 조는 발명창조가 특허권을 수여한 후 본 법에 달리 규정되어 있지 않는 한 누구도 그 특허를 실시할 수 없고, 생산경영을 목적으로 실시할 수 없다고 규정하고 있다. 따라서 생산 경영 목적도 특허 침해를 판단하는 구성 요소 중 하나여야 한다. 게다가, 손해 결과에 대해서는 특허 침해를 요구하지 않으면 반드시 실질적인 손실이 있어야 한다. 권리자가 입은 손실은 추상적인 개념이기 때문에 직접 손실과 간접 손실을 모두 포함한다. 전자는 직접적인 경제적 손실과 정신적 권리 피해로 나타났으며, 권리자가 침해 행위를 제지하기 위해 지불한 직접비용도 포함됐다. 후자는 권리자가 기대하는 합리적인 수익의 감소, 즉 통상적으로 말하는 득익으로 나타난다.

둘째, 특허 침해 분류

특허 침해는 직접 침해와 간접 침해로 나눌 수 있다.

직접 침해. 행위자가 직접 실시한 타인의 특허권을 침해하는 행위다. 그 표현에는 발명, 실용 신안, 외관 디자인 특허 제품의 제조 행위가 포함됩니다. 발명 및 실용 신안 특허 제품의 사용; 발명 및 실용 신안 특허 제품의 판매를 약속하는 행위; 발명, 실용 신안 또는 외관 디자인 특허 제품을 판매하는 행위 수입 발명, 실용 신안 및 외관 디자인 특허 제품의 행위

특허 방법 및 특허 방법에 따라 직접 획득한 제품을 사용, 약속 판매, 판매 또는 수입합니다.

간접 침해. 이는 행위자 자신의 행동이 특허권에 대한 침해를 직접적으로 구성하지는 않지만, 그는 이미 다른 사람이 특허권을 침해할 수 있도록 유도, 부추김, 선동, 도움을 주었다는 것을 의미한다. 간접 침해는 일반적으로 직접 침해를 위한 조건을 만들며, 일반적으로 행위자가 특허 제품을 판매하는 부품, 특허 제품 구현을 위한 금형, 특허 방법을 구현하는 데 사용되는 기계 장비 등을 나타냅니다. 행위자는 특허권자의 허가나 위임 없이 특허 기술을 양도하는 행위이다.

위의 문장 들은 "실용 신안 특허 침해의 구성 요소" 에 대해 자세히 설명합니다. 실용 신안 특허 침해의 구성 요소는 침해의 대상이 중국에서 특허권을 가진 유효 특허여야 한다는 것이다. 위법 행위가 존재하고 행위자가 주관적으로 잘못이 있다면, 일반적인 목적은 생산경영이어야 한다.