발명을 한 후, 우리는 우리의 발명을 위해 국가 발명 특허를 신청하는 것을 고려하기 시작할 필요가 있다. 우리의 국제 발명 특허 출원 과정은 무엇입니까? 일반인 신청이 쉽나요? 어떤 자격이 필요합니까? 우리가 너에게 해답을 줄게. 국가 발명 특허 출원 과정 국제 발명 특허 출원 자격: 발명 창조는 신청자가 정부 부문 (중국, 현재 중화인민공화국과 국가지적재산권국) 에 신청해야 하며, 중화인민공화국과 국가지적재산권국이 법정절차에 따라 심사하여 승인을 받아야 특허권을 얻을 수 있다. 중국에서는 현재 세 가지 유형의 발명, 즉 발명, 실용 신안, 외관 디자인이 있다. 신청 단계에서는 각각 발명 특허 출원, 실용 신안 특허 출원 및 외관 설계 특허 출원이라고 합니다. 허가를 받은 후 각각 발명 특허, 실용 신안 특허 및 외관 설계 특허라고 합니다. 이 시점에서 신청자는 해당 특허의 특허권자입니다. 특허를 발명한 국가 신청 절차는 특허법을 기초로 하며, 특허 출원을 발명하는 승인 절차에는 수락, 예비 심사, 발표, 실제 심사 및 승인 5 단계가 포함됩니다. 실용 신안 또는 외관 디자인 특허 출원은 승인 시 실질적 발표와 심사를 하지 않고 접수, 예비 심사 및 승인 3 단계만 거치게 된다. 특허 출원 서류를 자발적으로 수정하고 수정하는 것도 신청자가 필요에 따라 선택할 수 있는 절차다. 실용 신안 및 외관 디자인 특허 출원은 신청일로부터 2 개월 이내에 자발적으로 수정할 수 있습니다. 발명 특허 출원은 실질심사 요청을 제출하고 특허국에서 발급한 발명 특허 출원이 실질심사 단계 통지를 받은 날로부터 3 개월 이내에 특허 출원 서류를 자발적으로 수정할 수 있도록 허용한다. 특허국의 각종 통지 (1) 에 회답하다. 회신 시한을 준수하면 기한이 지난 회신의 결과는 회신하지 않는 것과 같다. 《의견 심사 통지서》가 지적한 문제를 하나하나 풀다. 답변은 심사위원의 의견에 동의하고 심사 의견에 따라 신청을 보완하거나 수정할 수 있습니다. 시험관의 의견에 동의하지 않으면 자신의 관점과 이유를 진술해야 한다. (2) 형식 또는 절차상의 결함은 일반적으로 수정을 통해 제거할 수 있습니다. 명백한 실질적 결함은 일반적으로 수정이나 수정을 통해 제거하기가 어렵다. 대부분의 경우, 우리는 존재 여부나 명백한 실질적 결함에 대해서만 변호하고 의견을 진술할 수 있을 뿐이다. (3) 발명 또는 실용 신안 특허 출원의 수정은 원래의 설명서와 권리 요구서에 기재된 범위를 초과해서는 안 되며, 외관 설계 특허 출원의 수정은 원본 사진이나 사진에 표시된 범위를 초과해서는 안 된다. 개정 서류를 제출할 때, 규정된 형식에 따라 교체 페이지를 첨부해야 한다. (4) 답변서는 정해진 형식으로 제출해야 한다. 예를 들어 수정이나 의견을 제출합니다. 일반적으로 보완서를 이용해 형식 문제나 절차문제를 바로잡고 의견진술서를 이용해 신청의 실질적 내용을 수정하는 경우가 많다. 신청인이 심사위원의 의견에 동의하지 않으면 답변할 때 의견 진술을 사용한다.