방법은 광학 투영을 통해 마스크의 패턴을 샘플 표면에 투영하여 패턴을 전송하는 것입니다. 가이드 DSA 에서 전자빔은 전자 마스크 조준기에 의해 제어되며 패턴은 샘플 표면에 직접 기록됩니다. 이 기술은 고해상도, 정밀도 및 유연성이 뛰어나 매우 복잡한 마이크로나 구조를 구현할 수 있습니다. 직접 빔 리소그래피와 마스크 리소그래피는 두 가지 일반적인 마이크로나 가공 기술입니다.