핵심 자주지적재산권은 단순히 제품 도안과 모양을 바꾸는 발명, 실용 신안, 외관 디자인 (주로 과학 및 엔지니어링 방법 연구 개발을 통해 얻은 디자인), 소프트웨어 저작권, 집적 회로 레이아웃 설계 독점권, 식물 신종 등을 포함한다.

발명 실용 신안 외관 디자인 특허는 국가지식재산권국을 통해 진실성 검사를 실시해야 한다. Com () 을 사용합니다.

소프트웨어 저작권, 국가 저작권국 중국 저작권 보호 센터 웹 사이트 () 를 통해 소프트웨어 저작권 로고 (저작권 로고라고도 함) 를 보고 진위성을 확인합니다.

하이테크 기업이 인정한 핵심 자주지적재산권은 반드시 중국에 등록하거나 5 년 이상의 글로벌 독점허가권을 누려야 하며 (하이테크 기업의 유효기간은 5 년 이상의 독점허가 기간 내에 있어야 함) 중국 법률의 유효 보호 기간 내에 있어야 한다.