특허 침해를 구성하는 중요한 요소는 두 가지 측면, 즉 형식 조건과 실질적 조건을 포함한다. 첫째, 형식 요구 사항 (1) 은 유효한 중국 특허를 포함합니다. (2) 이행은 특허권자의 허가나 허가를 받지 않아야 한다. (3) 시행행위는 반드시 생산경영을 목적으로 해야 한다. 둘째, 실질적 요소는 특허 침해의 실질적 요소, 즉 기술 조건, 실질적 시행 행위가 특허 보호 범위에 속하는지 여부를 구성한다. 행위자가 관련된 기술적 특징이 특허 보호 범위에 속할 경우, 행위자는 특허 침해를 구성한다. 제 11 조 중화인민공화국 특허법 제 60 조 중화인민공화국 특허법 제 61 조 중화인민공화국 특허법 제 65 조