발명 특허 출원 주체에 따라 발명 특허 출원의 공개 방식은 자체 공개와 국무원 특허 행정부 공개의 두 가지 범주로 나눌 수 있다. 자체 공개란 특허 출원인이 출판물 방식 (보통 논문을 발표하는 방식) 으로 자발적으로 대중에게 공개하는 것을 말한다. 법정 공개는 국무원 특허 행정부가 발명 특허 출원에 대한 예비 심사를 한 후 특허법 규정에 부합한다고 판단한 경우 신청일로부터 18 개월 이내에 발표해야 한다는 것을 말한다.

법적 근거

중화인민공화국 특허법 제 34 조

국무원 특허 행정부가 발명 특허 신청을 받은 후, 초보적인 심사를 거쳐 본법 규정에 부합하는 것은 신청일로부터 18 개월 후 즉시 발표해야 한다고 판단했다. 국무원 특허 행정부는 신청인의 요청에 따라 조속히 그 신청을 발표할 수 있다.