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특허 출원의 기본 조건
특허 출원의 기본 조건은 참신함, 창의력, 실용성을 포함한다.

1. 참신함: 발명이나 실용신형은 전례가 없어야 한다. 신청일 이전에 같은 내용은 국내외 간행물에 공개되지 않았고, 중국에서도 공개적으로 사용되거나 다른 방식으로 대중에게 알려지지도 않았다.

2. 창조성: 발명은 기존 기술에 비해 두드러진 실질적 특징과 현저한 진보, 즉 눈에 띄지 않는 발전을 해야 한다. 실용 신안은 창의적 요구는 비교적 낮지만 실질적 특징과 진보도 갖춰야 한다.

3. 실용성: 발명이나 실용신형을 신청하려면 공업에서 제조하거나 사용할 수 있어야 하며, 긍정적인 효과를 낼 수 있어야 합니다. 즉, 시행할 가능성과 기술적 효과가 있어야 합니다.

특허 출원 요건:

1. 형식 요구 사항: 신청자는 자세한 서면 설명 (권리 요구 사항, 설명서, 요약 등 포함) 을 제공해야 합니다. ) 에 대한 설명은 특허법의 규정에 부합하며 명확한 그림을 그립니다 (해당되는 경우). 개인 또는 기관의 신분증 정보 및 위탁 기관이 특허 신청을 처리하는 데 필요한 문서 (예: 위탁 특허 기관) 를 제공해야 합니다.

2. 절차 요구 사항: 국가지식재산권국 (전 중국특허국) 에 특허 신청을 제출하고 규정에 따라 신청비와 실질심사비를 포함한 관련 비용을 납부한다. 특허 출원 과정에서 예비 심사와 실질심사가 필요할 수 있으며 심사가 통과돼야 특허권을 얻을 수 있다.