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특허 출원에 대한 오해는 무엇입니까?
특허 출원 과정의 오해는 다음과 같습니다.

신화 1: 자체 R&D 성과에는 지적 재산권이 있으며 특허를 신청할 필요가 없습니다.

신화 2: 특허 출원 전에 제품이 양산됩니다.

신화 # 3: 특허 제품의 개선은 특허를 신청할 필요가 없습니다.

신화 4: 기술 성과는 한 가지 유형의 특허만 신청할 수 있다.

오해 5: 특허 증서를 받으면 유효한 특허권을 얻는다.

신화 # 6: 기술 프로그램이 명확하지 않습니다.

신화 # 7: 특허를 신청하기 전에 검색을하지 마십시오.

신화 8: 특허 출원 전에 논문을 발표하거나 결과를 확정한다.

오해 9: 특허의 효과적인 관리가 부족합니다.

오해 10: 장기 특허 전략 계획이 부족합니다.