1. 신고 단위는 기술 프로젝트 지침에 따라 프로젝트 신고 및 관련 자료를 준비합니다. -응?

2, 신고 기관이 제출 한 선언 및 관련 자료; -응?

3, 과학 기술국 (Technology Bureau of Technology) 은 선언 프로젝트를 검토하기 위해 관련 전문가를 조직합니다. -응?

4, 프로젝트 단위와 과학 기술국이 서명 한 프로젝트 사명 선언문; -응?

5, 프로젝트 구현 단위는 임무서의 요구에 따라 구현을 조직한다. -응?

6, 프로젝트가 완료되면 프로젝트 구현 단위는 프로젝트 수락 요약 보고서를 제출합니다. -응?

7. 과학기술국은 시행 프로젝트의 검수를 조직한다. -응?

특허 출원 절차:

(a) 발명 특허 출원

1. 발명 특허 출원 승인 프로세스: 특허 출원-수락-예비 심사-발표-실질심사 요청-실질심사-승인.

2. 발명 특허를 신청할 때 제출해야 할 서류: 1) 요청서: 발명 특허의 이름, 발명가 또는 디자이너의 이름, 신청인의 이름과 주소 등이 포함됩니다. 2) 설명: 발명 특허의 이름, 기술 분야, 배경 기술, 발명 내용, 그림 및 구체적인 구현 방법을 포함합니다.

3) 권리 요구 사항: 발명의 기술적 특징을 설명하고 보호를 요청하는 내용을 명확하고 간결하게 진술한다. 4) 설명서의 그림: 발명 특허는 항상 부도가 있다. 텍스트만 기술 방안을 명확하고 완벽하게 묘사할 수 있다면 도면이 필요하지 않을 것이다.

(b) 실용 신안 특허 출원

1. 실용 신안 특허 출원 승인 절차: 특허 출원-수락-예비 심사-공고-승인.

2. 실용 신안 특허를 신청할 때 제출해야 할 서류: 1) 요청서: 실용 신안 특허의 이름, 발명가 또는 디자이너의 이름, 신청자의 이름과 주소 등이 포함됩니다. 2) 설명: 실용 신안 특허의 이름, 기술 분야, 배경 기술, 발명 내용, 그림 및 구체적인 구현 방법을 포함합니다.

매뉴얼의 내용은 상세히 써야 하며, 언급한 기술 내용은 본 기술 분야의 일반 기술자가 읽은 후의 실현을 기준으로 한다. 3) 권리 요구 사항: 실용 신안의 기술적 특징을 설명하고 보호를 요청하는 내용을 명확하고 간결하게 진술한다.

4) 삽화: 실용 신안 특허에는 사진이 있어야합니다. 5) 설명서 요약: 발명이 해결해야 할 기술 문제, 이 문제를 해결하는 기술 방안의 요점과 주요 용도를 명확하게 반영한다.

(c) 외관 특허 출원

1. 외관 특허 출원 절차: 특허 출원-수락-예비 심사-공고-승인.

2. 외관 설계 특허가 제출해야 할 서류: 1) 요청: 외관 설계 특허의 이름, 디자이너 이름, 신청자 이름, 주소 등이 포함됩니다. 디자인 사진 또는 사진: 최소 2 세트의 사진 또는 사진 (전면, 후면, 맨 위, 맨 아래, 왼쪽, 오른쪽, 필요한 경우 스테레오 포함) 디자인 개요: 필요한 경우 디자인 개요를 제출해야 합니다.

확장 데이터:

특허 출원: 발명 창조는 신청자가 정부 주관부 (중국에서는 중화인민공화국과 국가지식재산권국) 에 신청해야 하며, 중화인민공화국과 국가지식재산권국이 법정절차에 따라 승인을 받아야 특허권을 얻을 수 있다.

중국에서 발명에는 발명, 실용 신안, 외관 디자인의 세 가지 유형이 포함되어 있다. 신청 단계에서는 각각 발명 특허 출원, 실용 신안 특허 출원 및 외관 설계 특허 출원이라고 합니다. 허가를 받은 후 각각 발명 특허, 실용 신안 특허 및 외관 설계 특허라고 합니다. 이 시점에서 신청자는 해당 특허의 특허권자입니다.

참고 자료:

국가 지적재산권국 인수현 인민정부 과학기술프로젝트 신고-특허 출원 승인 흐름도