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특허 획득 절차는 무엇입니까?
특허 신청자는 중국 특허청에 직접 특허를 신청할 수도 있고, 특허기관 (특허청) 에 의뢰하여 중국 특허청에 특허를 신청할 수도 있다.

특허 신청자가 특허 대행 기관에 출원을 의뢰하는 경우, 특허 대리 위탁서에 서명하고 필요한 기술 자료를 제공해야 한다. 특허 기관은 관련 정보를 기밀로 유지해야 할 책임이 있다.

발명 또는 실용 신안 특허를 신청할 때 제공해야 할 자료:

발명의 명칭.

기술 분야에 속하다.

발명 배경: 기존 기술 수준 (원리, 구조, 용도 등) ) 평론을 진행하여 주로 동종 기술의 결함, 문제 또는 부족을 지적한다.

발명이 창조한 임무나 목적: 기존 기술의 단점에 대해 해결해야 할 문제를 제기하다.

발명 창조 내용: 발명의 기술 개념을 설명하고 구체적인 구조, 연결, 기능 등을 지적한다.

발명창조의 우세와 적극적인 작용.

그림: 구조도, 회로도, 블록 다이어그램 등을 결합합니다. 이 기술 방안의 첨부된 그림에는 일반적으로 문자가 없고, 모든 부품 또는 조립품은 숫자로 번호가 매겨진다.

예: 발명 창조를 실현하는 구체적인 방법을 설명하십시오.

디자인 특허를 신청할 때 제공해야 할 정보:

실물 제품이나 제품 디자인의 사진과 사진. 그림이나 사진에는 전면, 맨 위, 맨 아래, 왼쪽, 오른쪽, 후면 및 3d 뷰 (상태 참조) 가 포함되어야 하며 다음 요구 사항을 충족해야 합니다.

사진은 흑백 사진이어야 하고, 사진은 그리기 도구로 그려야 합니다.

용지 크기는 3x3cm 이상이어야 하며19x27cm 이하여야 합니다.

각 사진이나 사진의 비율은 일치해야 합니다.

사진이나 사진에는 상표와 문자가 없어야 합니다.

컬러 보호가 필요한 경우 컬러 사진도 제공해야 합니다.

또한 신청자는 발명자 이름, 신청자 이름, 우편 주소, 우편 번호 등을 제공해야 합니다.