1. 수정 범위' 중화인민공화국 특허법' 제 33 조: 신청자는 특허 출원 서류를 수정할 수 있지만 발명과 실용 신안 특허 출원 서류의 수정은 원설명서와 권리요구서에 기재된 범위를 초과해서는 안 되며, 외관 디자인 특허 출원 서류의 수정은 원본 사진이나 사진에 표시된 범위를 넘어선 안 된다.
2. 수정기한 특허법 시행세칙 제 51 조: 발명특허 출원인은 국무원 특허 행정부로부터 발명특허 출원이 실질심사 단계에 들어온다는 통지를 받은 날로부터 3 개월 이내에 발명특허 출원을 자발적으로 수정할 수 있다.
실용 신안 또는 외관 디자인 특허 신청자는 신청일로부터 2 개월 이내에 실용 신안 또는 외관 디자인 특허 출원에 대한 수정 의견을 제출할 수 있습니다.
신청인이 국무원 특허 행정부로부터 심사 의견 통지서를 받은 후 특허 출원 서류를 수정하는 경우 통지서에 명시된 결함을 수정해야 한다.
국무원 특허 행정부는 특허 출원 서류에서 뚜렷한 글과 기호 오류를 스스로 정정할 수 있다. 국무원 특허 행정부가 스스로 수정한 것은 신청인에게 통지해야 한다.
법적 근거:' 중화인민공화국 특허법' 제 33 조 신청자는 특허 출원 서류를 수정할 수 있지만, 발명 및 실용 신안 특허 출원 서류의 수정은 원본 설명서와 권리 요구서에 기재된 범위를 초과해서는 안 된다. 외관 설계 특허 출원 서류의 수정은 원본 사진이나 사진에 표시된 범위를 초과해서는 안 된다.