법률 분석: 특허 출원 재심은 특허 신청자가 특허청에 불복하여 신청을 기각하는 결정이며, 재심을 요청하고, 특허국은 신청인의 요청에 따라 규정된 절차에 따라 신청을 재심리하는 제도다.

법적 근거: "중화인민공화국 특허법" 제 41 조. 특허 출원인은 국무원 특허 행정부가 신청을 기각하기로 한 결정에 불복한 경우 통지를 받은 날로부터 3 개월 이내에 국무원 특허 행정부에 재심을 요청할 수 있다. 재심 후 국무원 특허 행정부는 결정을 내리고 특허 신청자에게 통지해야 한다.

특허 출원인은 국무원 특허 행정부의 재심 결정에 불복하면 통지를 받은 날로부터 3 개월 이내에 인민법원에 소송을 제기할 수 있다.