중화인민공화국 특허법 (1984.03.12.06) NPC 제 6 대 인민대상위원회 제 4 차 회의는 NPC 제 7 대 인민대상위원회 제 27 차 회의에 따라 중화인민공화국 특허법 개정안 (/KLOC-) 을 통과시켰다. 제 1 차 수정은 2000 년 8 월 25 일 NPC 제 9 회 상임위원회 제 17 차 회의' 중화인민공화국 특허법 개정 결정' 에 따라, 제 2 차 수정은 2008 년 2 월 27 일 NPC 제 11 회 인민대표대회 상임위원회 제 6 차 회의' 중화인민공화국 특허법 개정 정보' 에 의거한다. 중화인민공화국 특허법 결정 제 3 차 개정)' 중화인민공화국 특허법' 제 42 조 발명 특허 기한은 20 년, 실용 신안 특허 및 외관 설계 특허 기한은 10 년이며 모두 신청일로부터 계산된다.