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진공 코팅용 광학 재료
(순도: 99.9%-99.9999%) SiO, 하프늄 이산화물, HfO? , 하프늄 이산화물, 하프늄 염화물, 지르코니아, ZrO2, 이산화 티탄, TiO2, 티타늄 이산화물, TiO 2, 실리카, SiO2, 티타늄 삼산화, Ti2O3, 티타늄 이산화물, Ti3O5, 탄탈 오산화 CeO2, CeO2, 산화마그네슘, MgO, 삼산화텅스텐, WO3, 산화사마륨, Sm2O3, 산화네오디뮴, Nd2O3, 산화비스무트, Bi2O3, 산화브롬, PR6O/KLOC-;

불화 마그네슘, 불화 마그네슘, 불소화 이테르븀, 불소화 이트륨, 불소화 란탄, 불소화 디스프로슘, 불소화 디스프로슘, 불소화 네오디뮴, 불소화 네오디뮴, 불소화 에르븀, 불소화 칼륨, KF, 불화 스트론튬, 불화 사마륨, 불소화 2. 세라믹 과녁

ITO 표적, AZO 표적, 산화 마그네슘 표적, 산화철 표적, 산화 크롬 표적, 산화 아연 표적, 황화 아연 표적, 황화 카드뮴 표적, 황화 몰리브덴 표적, 실리카 표적, 실리카 표적, 산화 세륨 표적, 이산화 지르코니아 표적, 이산화 니오브 표적, 이산화 티타늄 표적, 지르코니아 표적 아연 셀레 나이드 타겟, 질화 알루미늄 타겟, 실리콘 질화물 타겟, 질화 붕소 타겟, 질화 티타늄 타겟, 탄화 규소 타겟, 니오브 산 리튬 타겟, 티탄산 프라세오디뮴 타겟, 바륨 티타 네이트 타겟, 란탄 티타 네이트 타겟 및 니켈 산화물 타겟과 같은 세라믹 스퍼터링 타겟.