1. 첨단 기술 문턱: 화학 분야의 특허는 고도로 복잡한 과학 원리와 기술 세부 사항을 포함하고 있으며, 새로운 발명품을 실현하고 검증하는 과정에서 실험과 연구가 필요하며, 화학 특허 신청이 어렵고 화학 분야의 전문 지식과 기술 능력이 필요하다.

2. 지적재산권 보호가 어렵다: 화공 분야의 연구개발주기가 길고 위험이 높다. R&D 프로그램에서 밝혀진 정보에 따르면 연구원들은 동일한 기술 목표를 달성할 수 있는 보다 효과적이고 경제적인 방법을 찾을 것입니다. 화학 분야의 지적재산권 보호도 기술이 복잡하고, 모방이 쉽고, 규제가 어려운 등의 도전에 직면해 있다.