은도금은 l800 년에 시작되었고, 1838 년 영국 버밍엄의 엘킨튼 형제가 첫 은도금 특허를 냈다. 사용된 도금액은 알칼리성 브롬화물 도금액으로, 그들이 발명한 알칼리성 브롬화물 도금체계와 매우 비슷하다. 한 세기여 동안 은도금 용액의 기본 배합은 그 해와 크게 다르지 않았지만, 은배위 이온의 농도를 증가시켜 빠른 은도금의 목적을 달성했다. 과거 시안화물기 도금액의 주요 단점은 전류 밀도가 낮다는 것이다. 이제 이 문제도 해결되었다. 고효율 은도금은 전류 밀도를 10A/dm 까지, 밝은 은도금은 1.5 ~ 3a/dm 까지 만들 수 있습니다. 전기 도금 표면은 매끄럽고 광택이 없어도 두껍게 도금할 수 있다. 최근 몇 년 동안, 전자 부품의 고속 선택적 은도금이 급속히 발전하여, 지시선 프레임의 선택성 은도금과 같이, 스프레이 방법을 채택하였다. 사용 된 전류 밀도는 최대 300 ~ 3000 A/dm 이고, 도금액 중 시안화은 칼륨 [KAg(CN)2] 농도는 최대 40 ~ 75 g/L 이며, 백금 또는 백금 도금 티타늄 양극을 양극으로 사용하여 1s 내에서 약 도금할 수 있습니다

이황화탄소로 광택제를 만들면 완전히 반짝이는 은층을 얻을 수 없고 도금액에 넣는 데 시간이 좀 걸려야 효과를 볼 수 있다. 실제 광택제는 도금액 중 이황화탄소와 CN- 반응에 의해 생성되는 대체 우레아, 티오 우레아, 구아니딘, 황화물, 아미노 시안화물 및 기타 황화물 중 일부 화합물인 것으로 추정된다.