특허 기술 공개의 주요 내용은 다음과 같습니다.
1. 발명 창조 배경: 발명 창조와 관련된 기술 분야, 시장 배경, 기존 기술의 부족 및 시장 수요를 주로 소개합니다.
2. 원리: 발명창조의 원리와 기술의 실현 과정을 상세히 기술하는데, 주로 기술방안, 기술방안의 특징과 장점 등을 포함한다.
3. 사양: 발명된 사양을 나열하며, 주로 각종 성능 지표, 매개변수, 데이터 등을 포함한다.
4. 응용 전망: 발명이 창조한 응용 전망, 시장 수요, 시장 용량, 비즈니스 모델을 설명합니다.
특허 기술 교착은 특허 출원 과정에서 중요한 문서 중 하나로, 기관이 발명 창조를 더 잘 이해하고 요구 사항에 맞는 특허 출원 서류를 더 많이 작성할 수 있도록 도와준다. 동시에 특허 기술 공개도 특허국이 특허를 심사하는 중요한 근거 중 하나로 사용될 수 있다.