1. 물리적 세척은 역학, 음향, 광학, 전기, 열학 원리를 이용하여 기계 마찰, 초음파, 음압, 고압, 충격, 자외선, 증기 등 외부 에너지의 작용에 의존하여 세척하는 방법이다. 오염 성분을 바꾸지 않고 물체 표면의 더러움을 제거한다. 즉, 원래 화학 분자의 구성을 변경하지 않는 방법입니다. 2. 화학 세정은 화학반응의 작용으로 화학약품이나 기타 용제를 이용하여 물체 표면의 더러움을 제거하는 방법이다. 예를 들어, 각종 무기나 유기산은 물체 표면의 녹과 물때를 제거하는 데 사용되고 산화제는 물체 표면의 얼룩을 제거하는 데 사용됩니다. 화학약품은 그것과 화학반응을 일으켜 표면오염이나 코팅 (예: 세제, 알칼리 세정층) 을 제거한다. 기체가 화학 세척에서 부식되지 않도록 보호하거나 부식률을 허용 범위 내에서 제어하기 위해 일반적으로 화학 세척액에 적당량의 완화제와 활성화, 침투 및 습윤작용이 있는 첨가제를 넣는다. 방법: 침수법, 순환법, 작동 중인 청소법은 멈추지 않는 화학청소법이라고도 합니다. 항주의 심열 전공은 공업 세척을 제공한다.